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Die zweistufige Atomlagenabscheidung nutzt den flüssigen Ruthenium-Präkursor TRuST. Sie erzeugt ultradünne Halbleiterschichten mit geringem Widerstand und hoher Haltbarkeit – für leistungsfähigere Mikrochips der Zukunft. Die zweistufige Abscheidung von Wasserstoff und Sauerstoff mit TRuST TANAKA stellt heute ein zweistufiges Filmabscheidungsverfahren vor, das den flüssigen Ruthenium-Präkursor TRuST verwendet. TRuST ist ein Präkursor (ein Ausgangsprodukt für eine chemische Reaktion), der sehr gut sowohlArtikel Lesen

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Sunrise Period der Trust-Domains geht noch bis zum 21. April 2021 Vertrauen ist die Grundlage des Geschäftserfolgs (Bildquelle: geralt) Die Sunrise-Period der Trust-Domains hat kürzlich begonnen und geht bis zum 21. April 2021. In der Sunrise Period können sich Inhaber von Marken um gleichlautende Trust-Domains bewerben. Beim Trademark Clearinghouse angemeldete Marken können selbstverständlich für die Registrierung einer gleichlautenden Domain verwendetArtikel Lesen

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„TRuST“-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung “TRuST” Präkursor für CVD and ALD Prozesse Die TANAKA Kikinzoku Kogyo K.K., ein japanisches Unternehmen, welches das Edelmetallgeschäft der TANAKA Holding betreibt, bringt im Oktober 2020 einen neuen Ruthenium-Präkursor auf den Markt, Dank seiner neuartigen Molekularstruktur sorgt der sogenannte TRuST-Präkursor bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) und beiArtikel Lesen