Steigert Leistung von Halbleitern: Japanisches Unternehmen entwickelt neuartigen Ruthenium-Präkursor
2020-10-05
„TRuST“-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung “TRuST” Präkursor für CVD and ALD Prozesse Die TANAKA Kikinzoku Kogyo K.K., ein japanisches Unternehmen, welches das Edelmetallgeschäft der TANAKA Holding betreibt, bringt im Oktober 2020 einen neuen Ruthenium-Präkursor auf den Markt, Dank seiner neuartigen Molekularstruktur sorgt der sogenannte TRuST-Präkursor bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) und beiArtikel Lesen